清洗包括工業(yè)生產(chǎn)過程中對機(jī)械零件、電子元件、光學(xué)元件等的清洗,目的是去除微小的污垢顆粒。
超聲波清洗機(jī)根據(jù)清洗方法的不同,也可分為物理清洗和化學(xué)清洗:利用力學(xué)、聲學(xué)、光學(xué)、電學(xué)、熱學(xué)原理,依靠外部能量的作用,如機(jī)械摩擦、超聲波、負(fù)壓、高壓等。在罷工中。紫外線、蒸汽等去除物體表面污垢的方法稱為物理清洗;根據(jù)化學(xué)反應(yīng)的作用,使用化學(xué)藥物或其他溶劑清除物體表面的污垢稱為化學(xué)清洗。如使用各種無機(jī)或有機(jī)酸去除物體表面的銹、垢,用氧化劑去除物體表面的色斑,用殺菌劑。消毒劑殺滅微生物、去除霉菌等。物理清洗和化學(xué)清洗各有優(yōu)缺點(diǎn),具有很好的互補(bǔ)性。在實(shí)際應(yīng)用過程中,通常將兩者結(jié)合使用,以獲得更好的清洗效果。
根據(jù)清洗介質(zhì)的不同,又可分為濕法清洗和干法清洗:一般在液體介質(zhì)中清洗稱為濕法清洗,在氣體介質(zhì)中清洗稱為干法清洗。傳統(tǒng)的清洗方式大多是濕法清洗,人們更容易理解干洗是吸塵器。但近年來,干洗業(yè)發(fā)展迅速。如激光清洗。紫外線清洗、等離子清洗、干冰清洗等,在高。精細(xì)工業(yè)技術(shù)領(lǐng)域發(fā)展迅速。